2021年(nian)7月13日(ri)，在上(shang)海精測(ce)半(ban)導(dao)體(ti)技術有(you)限(xian)公(gong)司成立(li)三周年(nian)之(zhi)際(ji)，經過全體(ti)精測(ce)人的(de)努力(li)拼(pin)搏，迎 來了屬于(yu)自(zi)己的(de)榮(rong)耀時(shi)刻：國內首臺12寸(cun)獨立(li)式光學線(xian)寬測(ce)量設備(bei)（OCD）與(yu)國內唯一(yi)12寸(cun)全自(zi)動 電子束晶圓缺陷(xian)復查(cha)設備(bei)（Review SEM）順利(li)出機。

國內首臺12寸獨立式光學線寬測量機臺

12 寸獨立(li)式光學線寬(kuan)測量(liang)機(ji)(ji)臺 (OCD) 是(shi)(shi)該類型的國(guo)內(nei)首臺機(ji)(ji)臺，主要用于 45nm 以(yi)下、特別是(shi)(shi) 28nm 平面CMOS 工藝(yi)的量(liang)測，并可(ke)以(yi)延伸支持上述先(xian)進工藝(yi)節點(dian)的快速線寬(kuan)測量(liang)。EPROFILE 300FD 測量(liang)系統(tong)(tong)擁有完全自(zi)主知識產權(quan)，包括寬(kuan)譜(pu)全穆勒橢(tuo)偏測頭、對焦對位(wei)系統(tong)(tong)、系統(tong)(tong)軟件等核(he)心零部件均為自(zi)主研發，是(shi)(shi)真正意義(yi)上的高端(duan)國(guo)產化(hua)機(ji)(ji)臺。

配(pei)套 EPROFILE 300FD，上海精測還同時發布(bu)了新(xin)一代電磁(ci)場仿真建模工具 J_ProfilerTM V3.0 ；該款(kuan)軟件(jian)允許用(yong)戶在(zai)數百(bai)核的(de)高(gao)速建模運算服務器(qi)上進(jin)(jin)行(xing) OCD 建模與庫匹配(pei)，可以在(zai)獲取復雜三維納米結構光(guang)譜變化信息后，實時高(gao)速的(de)對于(yu)納米結構的(de)各(ge)個維度精確值進(jin)(jin)行(xing)計(ji)算。

EPROFILE 300FD 和 J_ProfilerTM V3.0 將為國內高節(jie)點產(chan)線提供穩定、實時、高速的量測解決(jue)方案。

12寸全自動電子束晶圓缺陷復查設備

12寸全自(zi)(zi)動(dong)(dong)電子束晶(jing)圓缺(que)陷復查設(she)備(bei)（ReviewSEM）是上海精測半導體的(de)另一(yi)項主(zhu)(zhu)力(li)產品。公司從底層開(kai)發做起，掃(sao)描電子顯(xian)(xian)微鏡、配套掃(sao)描成像電路(lu)等關鍵核(he)(he)心部件(jian)均為(wei)自(zi)(zi)主(zhu)(zhu)設(she)計，自(zi)(zi)主(zhu)(zhu)知識產權，并用了近(jin)兩年的(de)時(shi)間打通(tong)了電子顯(xian)(xian)微鏡核(he)(he)心零部件(jian)加工的(de)國產化供應鏈。此次(ci)出廠(chang)的(de)機臺配備(bei)了基于深度學習的(de)高(gao)準確(que)率智能化自(zi)(zi)動(dong)(dong)缺(que)陷檢測與分類算法，將進一(yi)步(bu)幫(bang)助(zhu)客戶(hu)提升(sheng)缺(que)陷復查分析的(de)效率并顯(xian)(xian)著提升(sheng)設(she)備(bei)使用的(de)便捷性(xing)。

上海精測(ce)半導(dao)體技術有限(xian)公司(si)通過(guo)自主構建研(yan)發團隊(dui)及海外并購引入國產化(hua)等手段，實現(xian)半導(dao)體測(ce)試(shi)、制程設備的(de)技術突破及產業化(hua)，成為全球領先的(de)半導(dao)體測(ce)試(shi)設備供應(ying)商及服務(wu)商。通過(guo)與(yu)多家知名研(yan)發中心(xin)、大學院(yuan)校開展合作(zuo)，共(gong)同開發新型檢(jian)測(ce)解決方案，提升國內半導(dao)體檢(jian)測(ce)裝備行(xing)業的(de)技術水平(ping)。